Fraunhofer-Gesellschaft
Wissenschaftliche*r Mitarbeiter*in - Plasmabeschichtungs- und Trockenätzverfahren
Aufgaben
Prozesstechnische Betreuung und Weiterentwicklung von PVD-, CVD- und RIE-Verfahren • Eigenständige Weiterentwicklung, Planung und Durchführung von Fertigungsprozessen an Vakuumanlagen für 8" und 12" Wafer-Bearbeitung • Selbstständige Entwicklung innovativer Prozesse im Reinraum • Akquise und Leitung von Entwicklungsprojekten in Zusammenarbeit mit nationalen und internationalen Partnern • Schichtcharakterisierung mittels moderner Analysemethoden • Kommunikation mit Kunden auf internationalen Messen und Fachkonferenzen
Anforderungen
• Abgeschlossenes wissenschaftliches Hochschulstudium in Physik, Chemie, Elektrotechnik, Mikrosystemtechnik oder vergleichbar • Berufspraxis in Vakuum-Plasmaprozessen, idealerweise HiPIMS, PECVD und/oder RIE • Erfahrung in Projektleitung und Akquise öffentlich geförderter Projekte • Sorgfältige, strukturierte, kreative und selbstständige Arbeitsweise • Hands-on-Mentalität und Freude an experimentellen Tätigkeiten • Teamorientierung, gute Auffassungsgabe, Qualitätsbewusstsein • Sehr gute Deutsch- und gute Englischkenntnisse
Redaktionelle Kurzfassung auf Basis der öffentlich zugänglichen Ausschreibung. Der vollständige Text steht bei der ausschreibenden Einrichtung. Zur Original-Ausschreibung →
Besonderheiten
Wissenschaftliche*r Mitarbeiter*in - Plasmabeschichtungs- und TrockenätzverfahrenWissenschaftliche*r Mitarbeiter*in - Plasmabeschichtungs- und TrockenätzverfahrenMoritzburgIZM - Zuverlässigkeit und Mikrointegration
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