Fraunhofer-Gesellschaft

Abschlussarbeit: DUV-unterstütztes athermisches Laser-Grooving von Low-κ-Dielektrika für KI-Chips

Bayern · Fraunhofer-Institut für Lasertechnik ILT, Lehrstuhl für Lasertechnik LLT · Frist: 31.08.2026
Befristung befristet bis zur Beendigung der Abschlussarbeit Frist 31.08.2026
Aufgaben
• Auswertung von Fachliteratur zur Laser-Material-Wechselwirkung in nanoporösen Dielektrika • Aufbau und Justage der optischen Doppelpuls-Anordnung (DUV-Pump + 515-nm-Abtragspuls) • Pump-Probe-Charakterisierung der transienten optischen Eigenschaften nach DUV-Anregung • Experimentelle Untersuchung des Doppelpuls-Abtrags in Low-κ/Si-Schichtsystemen
Anforderungen
• Studium in Maschinenbau, Mechatronik oder vergleichbarem Studiengang • Interesse an anwendungsorientierter Forschung an der Schnittstelle von Photonik und Halbleiterfertigung • Selbstständige, organisierte und strukturierte Arbeitsweise
Redaktionelle Kurzfassung auf Basis der öffentlich zugänglichen Ausschreibung. Der vollständige Text steht bei der ausschreibenden Einrichtung. Zur Original-Ausschreibung →
Besonderheiten
Abschlussarbeit: DUV-unterstütztes athermisches Laser-Grooving von Low-κ-Dielektrika für KI-ChipsAbschlussarbeit: DUV-unterstütztes athermisches Laser-Grooving von Low-κ-Dielektrika für KI-ChipsAachenILT - Lasertechnik
Schlagworte
LasertechnikHalbleiterfertigungPhotonikMaterialbearbeitungKI-ChipsUltraviolett-LaserFemtosekunden-LaserAbschlussarbeitExperimentelle Forschunganwendungsorientiert
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